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Copper Interconnect Technology

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

07.08.2009

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

423

Maße (L/B/H)

24.1/16/3.2 cm

Gewicht

910 g

Auflage

2009

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4419-0075-3

Beschreibung

Rezension

From the reviews:

“This book addresses the major issues encountered with the use of copper for interconnection lines in microelectronics. It combines materials, technology, and applications to address the needs of the microelectronics researcher. … This book is filled with graphs, data, properties, applications, and methods that will provide both the graduate student in microelectronics and the working microelectronics professional with current information on copper interconnection technology. It is an outstanding reference text that provides an excellent source of information on current copper interconnect technology and future possibilities.” (Electrical Insulation Magazine, Vol. 27 (2), March/April, 2011)

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Erscheinungsdatum

07.08.2009

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

423

Maße (L/B/H)

24.1/16/3.2 cm

Gewicht

910 g

Auflage

2009

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4419-0075-3

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

Email: ProductSafety@springernature.com

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  • Dielectric Materials.- Diffusion and Barrier Layers.- Pattern Generation.- Deposition Technologies of Materials for Cu-Interconnects.- The Copper Damascene Process and Chemical Mechanical Polishing.- Conduction and Electromigration.- Routing and Reliability.