Produktbild: Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing

Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing 2nd Edition

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

05.05.2010

Verlag

William Andrew

Seitenzahl

792

Maße (L/B/H)

24.4/19.8/4.8 cm

Gewicht

1433 g

Auflage

2. Auflage

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-8155-2037-5

Beschreibung

Rezension

"In addition to background theory and principles, this handbook is loaded with extensive practical information on vitually all aspects of PVD. It also has extensive listings of references, tabulated data, graphs, illustrations, and schematics - all of which greatly enhance the book and provide useful information. This handbook will be a frequented referenced book by those researchers using PVD." --Electrical Engineering

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Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

05.05.2010

Verlag

William Andrew

Seitenzahl

792

Maße (L/B/H)

24.4/19.8/4.8 cm

Gewicht

1433 g

Auflage

2. Auflage

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-8155-2037-5

Herstelleradresse

Libri GmbH
Europaallee 1
36244 Bad Hersfeld
DE

Email: gpsr@libri.de

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  • Introduction; Substrate ("Real") Surfaces and Surface Modification; The "Good" Vacuum (Low Pressure) Processing Environment; The Sub-Atmospheric Processing Environments; The Low-Pressure Plasma Processing Environment; Vacuum Evaporation and Vacuum Deposition; Physical Sputtering and Sputter Deposition (Sputtering); Arc Vapor Deposition; Ion Plating and Ion Beam Assisted Deposition; Atomistic Film Growth and Some Growth-Related Film Properties; Film Characterization and Some Basic Film Properties; Adhesion and Deadhesion; Cleaning; External Processing Environment; Transfer of Technology from R&D to Manufacturing