• Produktbild: Materials & Process Integration for MEMS
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Band 9

Materials & Process Integration for MEMS

Aus der Reihe Microsystems

Fr. 192.00

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei


Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

03.12.2010

Herausgeber

Francis E. H. Tay

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

299

Maße (L/B/H)

23.5/15.5/1.8 cm

Gewicht

499 g

Auflage

Softcover reprint of hardcover 1st edition 2002

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4419-5303-2

Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

03.12.2010

Herausgeber

Francis E. H. Tay

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

299

Maße (L/B/H)

23.5/15.5/1.8 cm

Gewicht

499 g

Auflage

Softcover reprint of hardcover 1st edition 2002

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4419-5303-2

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

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  • Contributors. Acknowledgements. Foreword. Preface. 1. Integration of Piezoelectric Pb (ZrxTi1-x)O3 (PZT) Thin Films into Micromachined Sensors and Actuators; P. Muralt, et al. 2. Porous Silicon as a Sacrificial Layer in Production of Silicon Diaphragms by Precision Grinding; A. Prochaska, et al. 3. GaAs Cantilever and Bridge Membrane-Like Structures Fully Compatible with AlGaAs/InGaAs/GaAs and InGaP/InGaAs/GaAs Based HFETs; T. Lalinsky, et al. 4. Magnetron Sputtered TiNiCu Shape Memory Alloy Thin Film for MEMS Applications; Yongqing Fu, Hejun Du. 5. Chemically Amplified Resist for Micromachining using X-Ray Lithography; T.L. Tan, et al. 6. Self-Assembled Monolayers (SAM) for Tunneling Sensors; F.E.H. Tay, et al. 7. Oxidation Process-Optimization for Large Area Silicon Fusion Bonded Devices and MEMS Structures; K.N. Bhat, et al. 8. Silicon Nanomachining by Scanning Probe Lithography and Anisotropic Wet Etching; J.T. Sheu, et al. 9. A Novel Bulk Micromachining Method in Gallium Arsenide; Dong-il 'Dan' Cho, et al.. 10. Deep X-Ray Lithography for MEMS-Photoelectron Exposure of the Upper and Bottom Resist Layers; V. Kudryashov, P. Lee. 11. Spray Coating Technology of Photoresist/Polymer for 3-D Patterning and Interconnect; A.B. Suriadi, et al. 12. Uncooled Infrared Image Sensor of Dielectric Bolometer Mode using Ferroelectric BST Thin Film Prepared by Metal Organic Decomposition; Hong Zhu, et al. 13. Tactical Grade MEMS Gyroscopes Fabricated by the SBM Process; Dong-il 'Dan' Cho, et al. 14. Plasma Etching Techniques to Form High-Aspect-Ratio MEMS Structures; Won Jong Yoo, et al. Index.