Kombination von zweiphotonenbasiertem direktem Laserschreiben mit großflächiger und hochpräziser Nanopositionierung
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- Deutsch ausgewählt
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Beschreibung
Produktdetails
Einband
Paperback
Erscheinungsdatum
28.07.2020
Abbildungen
mit 38 Farbabbildungen
Verlag
TU Ilmenau UniversitätsbibliothekSeitenzahl
134
Maße (L/B/H)
24/17/0.8 cm
Gewicht
242 g
Sprache
Deutsch
ISBN
978-3-86360-220-8
Im Bereich der Mikro- und Nanofabrikation ist das direkte Laserschreiben eine vielversprechende Technik zur maskenlosen Strukturierung von Photolacken. Mittels Zwei-Photonen-Absorption (2PA) kann das Laserschreiben auch zur Herstellung von dreidimensionalen Bauteilen mit minimalen Strukturbreiten von sub-100nm verwendet werden. Mit der optischen Präzision gehen auch Forderungen an die Präzision der Mess- und Positioniersysteme einher, um den technischen Stand von
zweiphotonenbasiertem Laserschreiben weiter voranzutreiben. Zur Kombination von Nanopositionier- und Nanomessmaschinen (NPM-Maschinen) mit 2PA-Laserschreiben wird ein Konzept entwickelt und umgesetzt sowie der daraus entstandene Aufbau charakterisiert. Sowohl die grossflächige als auch die hochpräzise Positionierung eröffnen neue Möglichkeiten in der Fabrikation. Insbesondere ist die hohe Präzision ausschlaggebend für Untersuchungen zur Unterschreitung der Beugungsbegrenzung bei Laserschreibprozessen.
zweiphotonenbasiertem Laserschreiben weiter voranzutreiben. Zur Kombination von Nanopositionier- und Nanomessmaschinen (NPM-Maschinen) mit 2PA-Laserschreiben wird ein Konzept entwickelt und umgesetzt sowie der daraus entstandene Aufbau charakterisiert. Sowohl die grossflächige als auch die hochpräzise Positionierung eröffnen neue Möglichkeiten in der Fabrikation. Insbesondere ist die hohe Präzision ausschlaggebend für Untersuchungen zur Unterschreitung der Beugungsbegrenzung bei Laserschreibprozessen.
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