Deposizione e Applicazioni di Film Sottili di AlN a Bassa Temperatura DE
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- Italienisch ausgewählt
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Beschreibung
Produktdetails
Einband
Taschenbuch
Erscheinungsdatum
02.03.2026
Verlag
Edizioni SapienzaSeitenzahl
192
Maße (L/B/H)
22/15/1.2 cm
Gewicht
304 g
Sprache
Italienisch
ISBN
978-620-9-67097-8
Questo libro è una monografia specializzata che esplora la deposizione e l'applicazione di film sottili di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità cresciuti a basse temperature utilizzando la deposizione di strati atomici assistita da plasma (PEALD). Descrive in dettaglio come la PEALD superi i limiti dei tradizionali metodi ad alta temperatura, consentendo la crescita di AlN cristallino con interfacce nitide ed eccellente uniformità su substrati sensibili alla temperatura come silicio e GaAs. Il libro presenta sistematicamente la ricerca degli autori, coprendo l'ottimizzazione del processo, l'ingegneria delle interfacce e la relazione fondamentale tra i parametri di deposizione e le proprietà del film. Evidenzia inoltre l'applicazione funzionale di questi film in settori all'avanguardia, dimostrando il loro ruolo come strati di passivazione e modifica delle interfacce per migliorare significativamente le prestazioni di array di emettitori nano-fotonici e celle solari sensibilizzate con punti quantici. Nel complesso, fornisce una guida completa dai fondamenti della scienza dei materiali all'integrazione di dispositivi optoelettronici ed energetici avanzati.
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