CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications
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- Hardcover ausgewählt
- Taschenbuch
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Sprache:Englisch
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Beschreibung
Produktdetails
Einband
Gebundene Ausgabe
Erscheinungsdatum
14.10.2016
Herausgeber
Alexander A. Demkov + weitereVerlag
Cambridge University PressSeitenzahl
194
Maße (L/B/H)
23.5/15.7/1.5 cm
Gewicht
440 g
Sprache
Englisch
ISBN
978-1-60511-128-5
To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.
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