Produktbild: High Energy & High Dose Ion Implantation

High Energy & High Dose Ion Implantation

Fr. 69.90

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei


Produktdetails

Erscheinungsdatum

16.06.1992

Verlag

Elsevier Science Bv

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-444-56753-6

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16.06.1992

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Elsevier Science Bv

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Englisch

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978-0-444-56753-6

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